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Journal of Micro-Nanopatterning Materials and Metrology-Jm3 影响因子与历年IFoid

年度 文章数/年 5年平均分 非自引分 自引率% IFoid
2023 new 56 1.4999 1.3000 13.3 1.4999
2022 60 2.3000 1.6000 30.4 2.3000
2021 55 0.0000 0.0000 0.0 0.0000

Journal of Micro-Nanopatterning Materials and Metrology-Jm3 期刊简介与审稿周期

期刊预警 非预警
期刊类别 SCIE    WOS官方核验
ISSN号 1932-5150
Open Access 26.32%
出版国家 美国
出版商 SPIE-SOC PHOTO-OPTICAL INSTRUMENTATION ENGINEERS
出版周期
大/小类学科 工程、电气与电子 | 纳米科学与纳米技术 | 材料科学、多学科 | 光学
JCR分区 Q3
中科院分区
中科院分区
升级版new
23年12月
升级版
22年12月
  • 综述:否
  • 大类:物理与天体物理3区 
  • 小类:光学4区 工程:电子与电气4区 材料科学:综合4区 纳米科技4区 
基础版
21年12月
  • 综述:否
  • 大类:
  • 小类:
升级版
21年12月
  • 综述:否
  • 大类:
  • 小类:
基础版
20年12月
  • 大类:物理与天体物理3区
  • 小类:光学4区 工程:电子与电气4区 材料科学:综合4区 纳米科技4区
升级版
20年12月
  • 大类:
  • 小类:
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