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Plasma Sources Science & Technology 影响因子与历年IFoid

年度 文章数/年 5年平均分 非自引分 自引率% IFoid
2023 new 242 3.5999 2.4002 27.3 3.3000
2022 295 3.9003 2.6002 31.6 3.8001
2021 273 4.4344 2.9829 27.7 4.1237
2020 299 3.9279 2.4719 31.0 3.5837
2019 232 3.4980 2.2901 28.3 3.1928
2018 258 3.8023 3.0430 26.3 4.1283
2017 193 3.7390 3.1038 21.2 3.9391
2016 190 3.3040 2.4083 27.1 3.3020
2015 220 3.1339 2.0281 27.8 2.8080
2014 187 3.0803 2.7729 22.8 3.5907
2013 136 2.7118 2.5911 15.2 3.0562
2012 150 2.5038 2.0238 19.5 2.5149
2011 153 2.3761 2.0209 19.8 2.5210
2010 138 2.5011 1.8600 16.1 2.2179
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Plasma Sources Science & Technology 期刊简介与审稿周期

期刊预警 非预警
期刊类别 SCIE    WOS官方核验
ISSN号 0963-0252
Open Access 26.54%
出版国家 英国
出版商 IOP PUBLISHING LTD
出版周期 双月刊
大/小类学科 物理、流体和等离子体
JCR分区 Q1
中科院分区
中科院分区
升级版new
23年12月
升级版
22年12月
  • 综述:否
  • 大类:物理与天体物理1区 Top 
  • 小类:物理:流体与等离子体1区 
基础版
21年12月
  • 综述:否
  • 大类:物理2区 Top
  • 小类:物理:流体与等离子体1区
升级版
21年12月
  • 综述:否
  • 大类:物理与天体物理2区 Top
  • 小类:物理:流体与等离子体1区
基础版
20年12月
  • 大类:物理与天体物理1区 Top
  • 小类:物理:流体与等离子体1区
升级版
20年12月
  • 大类:物理与天体物理2区
  • 小类:物理:流体与等离子体2区
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