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Chemical Vapor Deposition 影响因子与历年IFoid

年度 文章数/年 5年平均分 非自引分 自引率% IFoid
2017 new 0 2.0878 2.2270 0.0 2.2270
2016 0 1.5058 1.3332 0.0 1.3332
2015 44 1.6941 1.6560 7.4 1.7892
2014 46 1.6372 1.5268 10.3 1.7031
2013 44 1.8158 1.2371 9.8 1.3710
2012 47 1.7941 1.1369 13.6 1.3162
2011 50 1.8509 1.7099 4.8 1.7958
2010 45 2.0238 1.7610 2.4 1.8038
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Chemical Vapor Deposition 期刊简介与审稿周期

期刊预警 非预警
期刊类别 SCIE    WOS官方核验
ISSN号 0948-1907
Open Access
出版国家 德国
出版商 待查
出版周期 双月刊
大/小类学科 工程技术/电化学
JCR分区
中科院分区
中科院分区
升级版new
23年12月
  • 综述:否
  • 大类: 
  • 小类: 
升级版
22年12月
  • 综述:否
  • 大类: 
  • 小类: 
基础版
21年12月
  • 综述:否
  • 大类:
  • 小类:
升级版
21年12月
  • 综述:否
  • 大类:
  • 小类:
基础版
20年12月
  • 大类:
  • 小类:
升级版
20年12月
  • 大类:
  • 小类:
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