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Plasma Chemistry and Plasma Processing 影响因子与历年IFoid

年度 文章数/年 5年平均分 非自引分 自引率% IFoid
2023 new 123 2.8997 2.1001 19.2 2.6002
2022 85 3.1000 3.3000 8.3 3.5999
2021 74 3.2451 3.1462 5.7 3.3367
2020 119 3.1481 2.7931 11.3 3.1481
2019 91 2.6642 1.9020 12.7 2.1778
2018 78 2.7170 2.5210 8.9 2.7682
2017 96 2.5372 2.3042 13.3 2.6579
2016 94 2.1849 2.0262 14.0 2.3548
2015 67 1.8609 1.6218 10.4 1.8109
2014 88 1.8869 1.8069 12.1 2.0561
2013 76 2.2409 1.3540 15.3 1.5992
2012 85 2.2311 1.4398 16.7 1.7280
2011 62 2.3713 1.4079 12.1 1.6020
2010 63 1.8230 1.5508 13.7 1.7980
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Plasma Chemistry and Plasma Processing 期刊简介与审稿周期

期刊预警 非预警
期刊类别 SCIE    WOS官方核验
ISSN号 0272-4324
Open Access 14.18%
出版国家 美国
出版商 SPRINGER
出版周期 季刊
大/小类学科 工程、化学 | 应用物理学 | 物理、流体和等离子体
JCR分区 Q3
中科院分区
中科院分区
升级版new
23年12月
升级版
22年12月
  • 综述:否
  • 大类:工程技术3区 
  • 小类:物理:应用3区 物理:流体与等离子体2区 工程:化工3区 
基础版
21年12月
  • 综述:否
  • 大类:工程技术3区
  • 小类:工程:化工4区 物理:应用3区 物理:流体与等离子体2区
升级版
21年12月
  • 综述:否
  • 大类:工程技术3区
  • 小类:工程:化工3区 物理:应用3区 物理:流体与等离子体3区
基础版
20年12月
  • 大类:工程技术3区
  • 小类:物理:应用3区 物理:流体与等离子体2区 工程:化工3区
升级版
20年12月
  • 大类:工程技术3区
  • 小类:工程:化工3区 物理:应用3区 物理:流体与等离子体3区
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