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Microelectronic Engineering 影响因子与历年IFoid

年度 文章数/年 5年平均分 非自引分 自引率% IFoid
2023 new 100 2.5000 2.5000 3.8 2.6002
2022 118 2.3000 2.2000 4.3 2.3000
2021 127 2.2021 2.5792 3.1 2.6619
2020 165 2.0800 2.4467 3.0 2.5232
2019 234 1.8690 2.1060 8.6 2.3052
2018 225 1.5260 1.5070 8.9 1.6539
2017 284 1.4610 1.8850 6.7 2.0200
2016 334 1.4151 1.6949 6.1 1.8060
2015 423 1.1930 1.1451 10.3 1.2769
2014 410 1.2950 1.0930 8.7 1.1971
2013 557 1.3821 1.2029 10.1 1.3379
2012 486 1.2829 1.1161 8.8 1.2240
2011 762 1.4948 1.3068 16.1 1.5569
2010 552 1.5412 1.3970 11.3 1.5751
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Microelectronic Engineering 期刊简介与审稿周期

期刊预警 非预警
期刊类别 SCIE    WOS官方核验
ISSN号 0167-9317
Open Access 15.94%
出版国家 荷兰
出版商 ELSEVIER
出版周期 月刊
大/小类学科 工程、电气与电子 | 纳米科学与纳米技术 | 光学 | 物理学、应用
JCR分区 Q2
中科院分区
中科院分区
升级版new
23年12月
升级版
22年12月
  • 综述:否
  • 大类:工程技术3区 
  • 小类:工程:电子与电气4区 物理:应用3区 光学3区 纳米科技4区 
基础版
21年12月
  • 综述:否
  • 大类:工程技术4区
  • 小类:工程:电子与电气4区 纳米科技4区 光学4区 物理:应用4区
升级版
21年12月
  • 综述:否
  • 大类:工程技术3区
  • 小类:工程:电子与电气4区 纳米科技4区 光学3区 物理:应用3区
基础版
20年12月
  • 大类:工程技术3区
  • 小类:工程:电子与电气4区 物理:应用3区 光学3区 纳米科技4区
升级版
20年12月
  • 大类:工程技术3区
  • 小类:工程:电子与电气3区 纳米科技3区 光学3区 物理:应用3区
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