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Journal of Micro-Nanolithography Mems and Moems 影响因子与历年IFoid

年度 文章数/年 5年平均分 非自引分 自引率% IFoid
2022 new 0 1.4999 1.9999 0.0 1.9999
2021 0 1.0870 1.1669 0.0 1.1669
2020 26 0.9679 1.0609 13.0 1.2199
2019 52 1.0380 1.3379 14.2 1.5589
2018 68 1.1020 1.0199 14.5 1.1930
2017 77 1.1451 1.1081 14.7 1.2990
2016 95 1.2731 1.1769 12.8 1.3500
2015 105 1.1451 1.1669 12.6 1.3350
2014 120 1.0829 1.2090 15.3 1.4280
2013 101 1.0081 1.0759 10.7 1.2049
2012 96 0.9750 1.0000 12.9 1.1481
2011 85 1.0090 0.8721 12.4 0.9949
2010 91 1.2110 1.0300 13.7 1.1941
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Journal of Micro-Nanolithography Mems and Moems 期刊简介与审稿周期

期刊预警 非预警
期刊类别 SCIE    WOS官方核验
ISSN号 1932-5150
Open Access
出版国家 美国
出版商 待查
出版周期 季刊
大/小类学科 工程技术/工程:电子与电气
JCR分区 Q4
中科院分区
中科院分区
升级版new
23年12月
  • 综述:否
  • 大类: 
  • 小类: 
升级版
22年12月
  • 综述:否
  • 大类:物理与天体物理3区 
  • 小类:光学4区 工程:电子与电气4区 材料科学:综合4区 纳米科技4区 
基础版
21年12月
  • 综述:否
  • 大类:工程技术4区
  • 小类:工程:电子与电气4区 材料科学:综合4区 纳米科技4区 光学4区
升级版
21年12月
  • 综述:否
  • 大类:工程技术4区
  • 小类:工程:电子与电气4区 纳米科技4区 材料科学:综合4区 光学4区
基础版
20年12月
  • 大类:物理与天体物理3区
  • 小类:光学4区 工程:电子与电气4区 材料科学:综合4区 纳米科技4区
升级版
20年12月
  • 大类:工程技术3区
  • 小类:工程:电子与电气4区 纳米科技4区 材料科学:综合4区 光学4区
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