Journal of Micro-Nanolithography Mems and Moems 5年平均影响因子,母语润色,发文量,期刊简介,期刊点评,审稿时间,期刊投稿经验,分区,中科院分区SCI期刊影响因子查询_2025年(2025年度) 影响因子_Justscience_中外核心期刊系统_友情价英文母语润色

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Journal of Micro-Nanolithography Mems and Moems 影响因子与历年IFoid

年度	文章数/年	5年平均分	非自引分	自引率%	IFoid
2022 (预测数据)	0	1.4999	1.9999	0.0	1.9999
2021	0	1.0870	1.1669	0.0	1.1669
2020	26	0.9679	1.0609	13.0	1.2199
2019	52	1.0380	1.3379	14.2	1.5589
2018	68	1.1020	1.0199	14.5	1.1930
2017	77	1.1451	1.1081	14.7	1.2990
2016	95	1.2731	1.1769	12.8	1.3500
2015	105	1.1451	1.1669	12.6	1.3350
2014	120	1.0829	1.2090	15.3	1.4280
2013	101	1.0081	1.0759	10.7	1.2049
2012	96	0.9750	1.0000	12.9	1.1481
2011	85	1.0090	0.8721	12.4	0.9949
2010	91	1.2110	1.0300	13.7	1.1941
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Journal of Micro-Nanolithography Mems and Moems 期刊简介与审稿周期

期刊预警	非预警	期刊类别	SCIE WOS官方核验
ISSN号	1932-5150	Open Access	否
出版国家	美国	出版商	待查
出版周期	季刊	JCR分区
大/小类学科	工程技术/工程：电子与电气
中科院分区	升级版 25年3月	综述：否大类：小类：待更新
	升级版 23年12月	综述：否大类：小类：
	升级版 22年12月	综述：否大类：物理与天体物理3区小类：光学4区工程：电子与电气4区材料科学：综合4区纳米科技4区
	基础版 21年12月	综述：否大类：工程技术4区小类：工程：电子与电气4区材料科学：综合4区纳米科技4区光学4区
	升级版 21年12月	综述：否大类：工程技术4区小类：工程：电子与电气4区纳米科技4区材料科学：综合4区光学4区
	基础版 20年12月	大类：物理与天体物理3区小类：光学4区工程：电子与电气4区材料科学：综合4区纳米科技4区
	升级版 20年12月	大类：工程技术3区小类：工程：电子与电气4区纳米科技4区材料科学：综合4区光学4区
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