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IEEE Transactions on Plasma Science 影响因子与历年IFoid

年度 文章数/年 5年平均分 非自引分 自引率% IFoid
2023 new 419 1.2001 1.0000 23.1 1.3000
2022 645 1.4000 1.2001 20.0 1.4999
2021 515 1.3540 1.0640 22.2 1.3680
2020 559 1.2681 0.9979 18.3 1.2220
2019 714 1.2250 0.9320 28.8 1.3090
2018 561 1.1580 1.0631 19.8 1.3248
2017 451 1.1609 0.9009 28.1 1.2531
2016 470 1.0099 0.8431 19.9 1.0519
2015 574 0.9830 0.6660 30.5 0.9580
2014 763 1.0889 0.8200 25.5 1.1010
2013 526 1.0640 0.6590 30.6 0.9499
2012 470 1.0239 0.6801 21.7 0.8680
2011 854 1.1609 0.9009 23.3 1.1739
2010 479 1.2250 0.8590 20.2 1.0759
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IEEE Transactions on Plasma Science 期刊简介与审稿周期

期刊预警 非预警
期刊类别 SCIE    WOS官方核验
ISSN号 0093-3813
Open Access 3.86%
出版国家 美国
出版商 IEEE-INST ELECTRICAL ELECTRONICS ENGINEERS INC
出版周期 双月刊
大/小类学科 物理、流体和等离子体
JCR分区 Q3
中科院分区
中科院分区
升级版new
23年12月
升级版
22年12月
  • 综述:否
  • 大类:物理与天体物理3区 
  • 小类:物理:流体与等离子体4区 
基础版
21年12月
  • 综述:否
  • 大类:物理4区
  • 小类:物理:流体与等离子体4区
升级版
21年12月
  • 综述:否
  • 大类:物理与天体物理3区
  • 小类:物理:流体与等离子体4区
基础版
20年12月
  • 大类:物理与天体物理3区
  • 小类:物理:流体与等离子体4区
升级版
20年12月
  • 大类:物理与天体物理3区
  • 小类:物理:流体与等离子体4区
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