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Journal of Photopolymer Science and TechnologySCIE 影响因子与历年IF

年度 文章数/年 5年平均分 非自引分 自引率% IF
2024 new - 0.0000 0.6330 0.1 0.6334
2023 0 0.5999 0.4000 0.0 0.4000
2022 59 0.7000 0.5999 25.0 0.8000
2021 85 0.6981 0.5189 29.7 0.7380
2020 0 0.5660 0.5180 0.0 0.5180
2019 132 0.7459 0.5560 38.8 0.9090
2018 121 0.7439 0.6051 35.2 0.9340
2017 111 0.7140 0.5479 36.9 0.8680
2016 145 0.7119 0.5259 33.5 0.7909
2015 136 0.6601 0.6510 24.0 0.8571
2014 132 0.7951 0.7109 32.6 1.0550
2013 140 0.7410 0.5780 36.3 0.9079
2012 133 0.7571 0.6021 38.8 0.9839
2011 116 0.7050 0.6180 31.6 0.9040
2010 133 0.8340 0.8010 22.2 1.0291
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Journal of Photopolymer Science and TechnologySCIE 影响因子与历年IF

期刊预警 非预警 期刊类别 SCIE     WOS官方核验
ISSN号 0914-9244 Open Access 56.69%
出版国家 日本 出版商 TECHNICAL ASSOC PHOTOPOLYMERS,JAPAN
出版周期 半年刊 JCR分区 Q4
大/小类学科 高分子科学
中科院分区
中科院分区
升级版new
25年3月
升级版
23年12月
升级版
22年12月
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  • 综述:否
  • 大类: 化学 4区
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基础版
21年12月
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  • 大类: 化学 4区
  • 小类: 高分子科学 4区
升级版
21年12月
  • 综述:否
  • 大类: 化学 4区
  • 小类: 高分子科学 4区
基础版
20年12月
  • 大类: 化学 4区
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20年12月
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