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Journal of Laser Micro NanoengineeringSCIE 影响因子与历年IF

年度 文章数/年 5年平均分 非自引分 自引率% IF
2024 new - 0.0000 0.8330 0.0 0.8332
2023 32 0.9000 0.7000 12.5 0.8000
2022 28 1.0000 1.0000 9.1 1.1001
2021 34 1.3241 1.3011 6.1 1.3858
2020 42 1.1090 1.2131 5.0 1.2769
2019 41 0.8080 0.7920 10.7 0.8869
2018 53 0.7789 0.6499 11.3 0.7329
2017 53 0.8650 0.6330 19.8 0.7889
2016 67 0.8541 0.6580 13.8 0.7631
2015 61 0.8290 0.6111 19.5 0.7590
2014 53 0.8351 0.9020 10.5 1.0081
2013 55 0.7581 0.6220 14.9 0.7309
2012 68 0.9229 0.7881 13.7 0.9130
2011 51 0.6051 0.4549 18.2 0.5560
2010 53 0.8221 0.9519 7.0 1.0239
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Journal of Laser Micro NanoengineeringSCIE 影响因子与历年IF

期刊预警 非预警 期刊类别 SCIE     WOS官方核验
ISSN号 1880-0688 Open Access 100.00%
出版国家 日本 出版商 JAPAN LASER PROCESSING SOC
出版周期 三年刊 JCR分区 Q4
大/小类学科 纳米科学与纳米技术 | 材料科学、多学科 | 光学 | 物理学、应用
中科院分区
中科院分区
升级版new
25年3月
升级版
23年12月
升级版
22年12月
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  • 综述:否
  • 大类: 材料科学 4区
  • 小类: 光学 4区 物理:应用 4区 材料科学:综合 4区 纳米科技 4区
基础版
21年12月
  • 综述:否
  • 大类: 工程技术 4区
  • 小类: 材料科学:综合 4区 纳米科技 4区 光学 4区 物理:应用 4区
升级版
21年12月
  • 综述:否
  • 大类: 材料科学 4区
  • 小类: 纳米科技 4区 材料科学:综合 4区 光学 4区 物理:应用 4区
基础版
20年12月
  • 大类: 材料科学 4区
  • 小类: 光学 4区 物理:应用 4区 材料科学:综合 4区 纳米科技 4区
升级版
20年12月
  • 大类: 材料科学 4区
  • 小类: 纳米科技 4区 材料科学:综合 4区 光学 4区 物理:应用 4区
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