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Recent Patents on Nanotechnology 影响因子与历年IFoid

年度 文章数/年 5年平均分 非自引分 自引率% IFoid
2023 new 29 2.2000 1.7998 10.0 1.9999
2022 23 1.7998 1.7998 10.0 1.9999
2021 25 2.0849 2.1702 6.5 2.3209
2020 32 2.1522 1.6670 14.6 1.9522
2019 21 1.7168 0.9551 2.3 0.9771
2018 21 2.1149 1.7271 1.3 1.7501
2017 23 1.8841 1.3248 10.2 1.4749
2016 21 1.7142 0.8240 9.6 0.9121
2015 19 1.4460 1.4851 5.8 1.5759
2014 15 2.1442 2.5000 2.9 2.5747
2013 18 1.7241 1.3079 21.5 1.6670
2012 22 1.5348 0.8650 20.0 1.0810
2011 17 1.2929 1.2250 3.9 1.2752
2010 20 1.0370 0.9490 0.0 0.9490
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Recent Patents on Nanotechnology 期刊简介与审稿周期

期刊预警 非预警
期刊类别 SCIE    WOS官方核验
ISSN号 1872-2105
Open Access 0.00%
出版国家 阿拉伯联合酋长国
出版商 BENTHAM SCIENCE PUBL LTD
出版周期
大/小类学科 纳米科学与纳米技术 | 材料科学、多学科 | 物理学、应用
JCR分区 Q3
中科院分区
中科院分区
升级版new
23年12月
升级版
22年12月
  • 综述:否
  • 大类:材料科学4区 
  • 小类:纳米科技4区 材料科学:综合4区 物理:应用4区 
基础版
21年12月
  • 综述:否
  • 大类:工程技术4区
  • 小类:材料科学:综合4区 纳米科技4区 物理:应用4区
升级版
21年12月
  • 综述:否
  • 大类:材料科学4区
  • 小类:纳米科技4区 材料科学:综合4区 物理:应用4区
基础版
20年12月
  • 大类:材料科学4区
  • 小类:纳米科技4区 材料科学:综合4区 物理:应用4区
升级版
20年12月
  • 大类:材料科学4区
  • 小类:纳米科技4区 材料科学:综合4区 物理:应用4区
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