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International Journal of Imaging Systems and TechnologySCIE 影响因子与历年IF

年度 文章数/年 5年平均分 非自引分 自引率% IF
2024 new 191 2.4002 2.3000 8.0 2.5000
2023 162 2.8997 2.7001 10.0 2.9997
2022 138 3.1000 3.1000 6.1 3.3000
2021 151 2.1828 1.9312 11.3 2.1768
2020 175 2.0301 1.6518 17.4 1.9999
2019 59 1.5938 1.4929 22.4 1.9251
2018 30 1.2808 0.8869 29.3 1.2541
2017 37 1.3441 1.2110 14.9 1.4231
2016 34 1.2001 1.0380 8.9 1.1389
2015 37 0.8939 0.4400 22.9 0.5710
2014 42 1.0759 1.0550 18.9 1.3011
2013 42 0.8501 0.7251 5.6 0.7681
2012 31 0.7390 0.5900 7.7 0.6389
2011 38 0.6301 0.7671 1.5 0.7789
2010 45 0.7271 0.6330 7.5 0.6840
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International Journal of Imaging Systems and TechnologySCIE 影响因子与历年IF

期刊预警 非预警 期刊类别 SCIE     WOS官方核验
ISSN号 0899-9457 Open Access 3.99%
出版国家 美国 出版商 WILEY
出版周期 双月刊 JCR分区 Q2
大/小类学科 工程、电气与电子 | 光学 | 影像科学与摄影技术
中科院分区
中科院分区
升级版new
25年3月
升级版
23年12月
升级版
22年12月
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  • 综述:否
  • 大类: 计算机科学 4区
  • 小类: 工程:电子与电气 4区 成像科学与照相技术 4区 光学 4区
基础版
21年12月
  • 综述:否
  • 大类: 工程技术 4区
  • 小类: 工程:电子与电气 4区 成像科学与照相技术 4区 光学 4区
升级版
21年12月
  • 综述:否
  • 大类: 计算机科学 4区
  • 小类: 工程:电子与电气 4区 光学 4区 成像科学与照相技术 4区
基础版
20年12月
  • 大类: 计算机科学 4区
  • 小类: 工程:电子与电气 4区 成像科学与照相技术 4区 光学 4区
升级版
20年12月
  • 大类: 计算机科学 4区
  • 小类: 工程:电子与电气 4区 光学 4区 成像科学与照相技术 4区
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