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Plasma Science & Technology 影响因子与历年IFoid

年度 文章数/年 5年平均分 非自引分 自引率% IFoid
2023 new 199 1.4999 1.4000 12.5 1.6000
2022 238 1.6000 1.4999 11.8 1.7001
2021 190 1.5308 1.5039 18.3 1.8419
2020 192 1.2808 1.2979 17.2 1.5670
2019 184 1.1570 1.0349 23.8 1.3580
2018 238 1.0090 0.8169 31.5 1.1930
2017 186 0.7661 0.7309 31.7 1.0700
2016 202 0.6560 0.6401 22.9 0.8301
2015 184 0.6051 0.4970 24.6 0.6590
2014 199 0.5759 0.4769 17.6 0.5791
2013 238 0.5570 0.4621 22.5 0.5961
2012 223 0.5009 0.4290 16.5 0.5139
2011 141 0.4100 0.3091 24.1 0.4070
2010 141 0.4749 0.4830 12.7 0.5530
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Plasma Science & Technology 期刊简介与审稿周期

期刊预警 非预警
期刊类别 SCIE    WOS官方核验
ISSN号 1009-0630
Open Access 0.48%
出版国家 中国
出版商 IOP PUBLISHING LTD
出版周期 月刊
大/小类学科 物理、流体和等离子体
JCR分区 Q3
中科院分区
中科院分区
升级版new
23年12月
升级版
22年12月
  • 综述:否
  • 大类:物理与天体物理3区 
  • 小类:物理:流体与等离子体3区 
基础版
21年12月
  • 综述:否
  • 大类:物理2区
  • 小类:物理:流体与等离子体2区
升级版
21年12月
  • 综述:否
  • 大类:物理与天体物理2区
  • 小类:物理:流体与等离子体2区
基础版
20年12月
  • 大类:物理与天体物理3区
  • 小类:物理:流体与等离子体3区
升级版
20年12月
  • 大类:物理与天体物理2区
  • 小类:物理:流体与等离子体2区
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