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Optoelectronics and Advanced Materials-Rapid CommunicationsSCIE 影响因子与历年IF

年度 文章数/年 5年平均分 非自引分 自引率% IF
2024 new 66 0.4000 0.3000 25.0 0.4000
2023 73 0.3000 0.4000 20.0 0.5000
2022 81 0.3000 0.4000 20.0 0.5000
2021 83 0.3370 0.4760 14.4 0.5560
2020 87 0.4390 0.3259 26.1 0.4411
2019 102 0.3811 0.3609 18.9 0.4451
2018 134 0.4329 0.3770 16.6 0.4519
2017 140 0.3830 0.3459 10.4 0.3860
2016 192 0.3900 0.4249 9.6 0.4700
2015 290 0.3909 0.2530 38.6 0.4120
2014 242 0.3629 0.3169 19.5 0.3940
2013 212 0.3779 0.2950 34.3 0.4489
2012 258 0.3409 0.2520 37.3 0.4019
2011 294 0.2870 0.1850 39.1 0.3040
2010 509 0.4709 0.2770 41.9 0.4769
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Optoelectronics and Advanced Materials-Rapid CommunicationsSCIE 影响因子与历年IF

期刊预警 非预警 期刊类别 SCIE     WOS官方核验
ISSN号 1842-6573 Open Access 0.00%
出版国家 罗马尼亚 出版商 NATL INST OPTOELECTRONICS
出版周期 月刊 JCR分区 Q4
大/小类学科 材料科学、多学科 | 光学
中科院分区
中科院分区
升级版new
25年3月
升级版
23年12月
升级版
22年12月
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  • 综述:否
  • 大类: 材料科学 4区
  • 小类: 光学 4区 材料科学:综合 4区
基础版
21年12月
  • 综述:否
  • 大类: 工程技术 4区
  • 小类: 材料科学:综合 4区 光学 4区
升级版
21年12月
  • 综述:否
  • 大类: 材料科学 4区
  • 小类: 材料科学:综合 4区 光学 4区
基础版
20年12月
  • 大类: 材料科学 4区
  • 小类: 光学 4区 材料科学:综合 4区
升级版
20年12月
  • 大类: 材料科学 4区
  • 小类: 材料科学:综合 4区 光学 4区
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